가스 (비가열) 희석장비 (비교)
페이지 정보
본문
| 장비명 | En | 모델명 | 사진 | 사양 |
| 가스(비가열) 희석장비 | Dilution system 희석비율 1: 10 |
VKL 10 |
 |
Df= 10 dpmax ≒ 2 ㎛
|
| Dilution system 희석비율 1: 10 내화학성희석장비 |
VKL 10 ED |  |
Df=
10
dpmax : <20 ㎛ |
|
| Dilution system 희석비율 1: 10 |
VKL 100 |
 |
Df= 100 dpmax ≒ 2 ㎛ |
|
| Gas Dilution system, 희석비율 1: 10, 100, 1,000 & 10,000 | DC10000 |
 | Df= 10,100, 1000
& 10,000 dpmax ≒ 5 ㎛ |